Apta Hitachi KM11 oleum pressura sensorem EX200-2-3-5

Quattuor pressura technologiae pressurae sensorem

1. Capacitive

capacitiva pressionis sensoriis frequentibus applicationibus professionalibus OEM foveri solent.Facultatem deprehendendi mutationes inter duas superficies his sensoriibus permittit ut pressuram humilem et gradus vacuos sentientes.In nostra conformatione sensori typico, compacta habitationi constat duabus inter se distantibus, parallelis et electrically remotis metallis superficiebus, quarum una est essentialiter diaphragma, quod leviter sub pressione flectere potest.Hae superficies fixas (vel laminas) firmiter conscendunt ut flexus conventus intermedium mutet (realiter capacitorem variabilem efformans).Consequens mutatio deprehenditur per ambitum comparatorem linearem sensitivum cum (vel ASIC), quod signum proportionale ampliat et outponit.

2.CVD type

vapor chemicus depositionis (vel "CVD") fabricandi methodus ligamenta strato polysilicon ad diaphragma immaculatum in gradu hypothetico, ita sensorem cum praestanti diuturno egisse effectu producens.Communes massae processus semiconductoris modi fabricandi usi sunt ad polysilicos iactandos pontes coniecturam creandi cum praestanti observantia maximo rationabili pretio.CVD structura optimam impensam obtinet et est popularis sensoris in applicationibus OEM.

3. genus amet Sputtering

Putris depositionis cinematographicae (vel "film") sensorem creare potest cum maxima linearitate, hysteresi et iterabili coniuncta.Accuratio tam alta esse potest quam 0.08% plenae scalae, dum longi temporis summa tam gravis est quam 0,06% plenae scalae quotannis.Extraordinaria observantia instrumentorum clavium - sensoris tenuis pellicularum debellantium est thesaurus in pressione sentiendi industriam.

4.MMS type

Hi sensoriis micro-siliconis (MMS) diaphragmatis ad mutationes pressionis deprehendendas utuntur.Diaphragma Pii a medio segregatur per 316SS oleum repletum, et in serie agunt cum processu pressionis fluidi.MMS sensorem communem semiconductorem fabricandi technologiam adoptat, quae alta intentione resistentiam consequi potest, bonam linearitatem, optimam thermarum observantiam et stabilitatem in sarcina sensoris pacti.